La prohibición de las máquinas UVE de ASML lastró los planes de China
Chips no binarios, tecnología UVE propia... y ahora equipos de litografía NIL
Si hay algo que China está echando de menos en esta guerra de chips que libra con Estados Unidos, esas son las máquinas UVE de la holandesa ASML. Esta juega un papel fundamental en la fabricación de semiconductores avanzados, es por ello que la industria china lleva tiempo sufriendo un cuello de botella que parece insalvable. A expensas de lo que suceda con su propia tecnología UVE, presumiblemente cuenta con un 'plan B' que estaría listo.
La noticia. Según informa el medio Digitimes Asia, la empresa china Pulin Technology —fundada en 2017— acaba de enviar su primera máquina de litografía de nanoimpresión (NIL) a un cliente. A diferencia de la litografía UVE, que usa luz ultravioleta extrema, ésta funciona como un sello de alta precisión que "imprime" los patrones de los circuitos sobre la oblea de silicio.
El objetivo. Este sería el primer sistema de este tipo desarrollado y comercializado en China. Su importancia, como es natural, es estratégica: si la tecnología NIL demuestra ser viable para la producción en masa, podría convertirse en una alternativa a las máquinas de ASML que China tanto necesita. Así fabricaría chips avanzados por una ruta que no está vetada por EEUU. En esencia, es una puerta trasera para escapar del bloqueo.
La competencia. Curiosamente, China no es la única que explora esta vía. El gran pionero de la tecnología NIL a nivel comercial es el gigante japonés Canon, que ya lanzó su propia máquina en 2023. Al parecer, la de Pulin está diseñada para competir directamente con el sistema de Canon, con la ambiciosa meta de fabricar chips por debajo de los 10 nanómetros.
El telón de fondo. El hito de esta empresa china no es un esfuerzo aislado. Es la punta de lanza de una estrategia nacional masiva: en un reciente evento en Suzhou, se mostraron más de 300 empresas e institutos de investigación trabajando en el desarrollo de tecnologías de litografía avanzada. Sin contar las enormes inversiones dentro del National Integrated Circuit Industry Investment Fund con 47.500 millones de dólares.
Este tipo de avances son vitales para el futuro de gigantes chinos como Huawei. El desarrollo de una maquinaria de litografía 100% china es el único camino para que, a largo plazo, puedan fabricar sus chips Kirin más avanzados sin depender de nadie. Es la pieza que falta en el puzle de su independencia tras la "vuelta" de sus smartphones 5G y la irrupción de HarmonyOS Next como ecosistema de software nacional.
Incógnitas. Aunque sobre el papel la tecnología NIL es más sencilla y barata que la UVE, su viabilidad para la producción en masa todavía alberga dudas. El principal problema, como se explica en este vídeo de Asianometry, es que al ser un método de contacto físico directo, es sensible a los defectos.
Otro gran hándicap es la velocidad, debido principalmente a su naturaleza secuencial. Es un factor crítico en la fabricación a gran escala, principal cuello de botella de la actual industria china que sigue 'exprimiendo' las maquinarias UVP de la época anterior al veto. Veremos qué sucede si finalmente los equipos NIL están listos.
Imagen de portada | ASML
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